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    • 适用于高温高压条件下的干法除尘设备

    • 本技术研发的目的在于提供一种适用于高温高压流化床粉体反反应的干法除尘器，以解决实际生产过程中遇到的除尘效果不好、操作困难和除尘设备成本高的技术问题，在三氯氢硅、多晶硅冷氢化以及有机硅合成制备的工艺中广泛的应用。 ...

    • 反应尾气中氯气的无害化处理装置

    • 本技术研发要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种反应尾气中氯气的无害化处理装置，多次的净化工序提高了尾气中氯气的吸收效率，自动化程度较高，控制精准且操作简便，实现了反应尾气中氯气无害化处理过程的连续运行，实现对循环使用的氢氧化钠溶液进行...

    • 钙钛矿用高纯碘化铅类金属卤化物的工业化生产

    • 本技术研发要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种高纯碘化铅类金属卤化物生产装置，实现钙钛矿用高纯碘化铅类金属卤化物的工业化制备，自动化程度较高，可为高纯碘化铅类金属卤化物节约人工成本，通过降温重结晶的方法制备的产品纯度较高，提高高纯碘化...

    • CMP研磨液专用气相二氧化硅

    • CMP (ChemicalMechanicalPolishing)化学机械抛光是一个化学腐蚀和机械摩擦的结合。是目前较为普遍的半导体材料表面平整技术，兼收了机械摩擦和化学腐蚀的优点，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造...

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